在半導(dǎo)體制造中，硅片常使用100晶向的取向，這是因?yàn)?00晶向具有以下優(yōu)勢(shì)和適用性：
1. 基礎(chǔ)晶體結(jié)構(gòu)：硅的晶體結(jié)構(gòu)是面心立方（FCC），其中(100)晶向是最密堆積的晶面。這意味著(100)晶向的硅片在晶格結(jié)構(gòu)上具有較高的平坦度和晶格參數(shù)的一致性，使其更適合用作半導(dǎo)體器件的基板材料。
2. 制造工藝優(yōu)勢(shì)：(100)晶向的硅片在制造工藝上具有優(yōu)勢(shì)。由于其表面平整度高，可以更容易地進(jìn)行刻蝕、沉積和其他加工工藝。此外，(100)晶向硅片也更容易進(jìn)行物理和化學(xué)處理，使其適合于制備集成電路和其他半導(dǎo)體器件。
3. 晶體方向的一致性：使用(100)晶向的硅片，可以使晶片在制造過程中具有更高的一致性和可重復(fù)性。這對(duì)于保證器件的性能一致性和制造過程的可控性非常重要。
4. 襯底的方便性：(100)晶向硅片作為襯底材料，具有較好的匹配性和兼容性。它可以與許多常用的半導(dǎo)體材料和層疊結(jié)構(gòu)相匹配，使其更適合用于制備各種類型的半導(dǎo)體器件。